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AG亚博真人|英特尔在1平方毫米中塞下1亿个晶体管——其实就是10nm制程
时间:2021-01-22 04:54 点击次数:
本文摘要:(微信官方账号:)出版社:对于科技媒体来说,“里程碑”这个词出现的频率往往很低,一个可爱的整数或者某个纪念日是点击率的保证。周二,英特尔也抢了一个翻盘,因为芯片巨头逻辑技术部副主席凯扎德米斯特里(Kaizad Mistry)宣布,他们已经能够在1平方毫米内插入1亿个晶体管,“这意味着行业历史上前所未有的。”是的,它可以是一个“里程碑”的变化。

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(微信官方账号:)出版社:对于科技媒体来说,“里程碑”这个词出现的频率往往很低,一个可爱的整数或者某个纪念日是点击率的保证。周二,英特尔也抢了一个翻盘,因为芯片巨头逻辑技术部副主席凯扎德米斯特里(Kaizad Mistry)宣布,他们已经能够在1平方毫米内插入1亿个晶体管,“这意味着行业历史上前所未有的。”是的,它可以是一个“里程碑”的变化。

在相同的面积上封装更多的晶体管意味着可以有效地减少电路设计,这不仅可以降低芯片生产成本,还意味着芯片可以在相同的尺寸上实现更多的功能。这个“里程碑”新闻是在英特尔的第一个“技术和生产日”发布的。在这次活动中,我们不仅想一睹芯片巨头的芯片布局和PCB技术,还听到了一个激动人心的论点,摩尔定律3354没有杀人,至少对英特尔来说是这样。“一平方毫米插一亿个晶体管”只是个文艺问题,从技术上来说,这是我们听过很多次的10纳米。

什么?这也叫里程碑?搭载Snapdragon 835(10nm)的Galaxy S8,请慢放。然而,英特尔真的很不服气。

指出友商口所谓的10纳米已经用的是抛光版的米托秀秀,掩盖了栅极间距、晶体管密度等关键指标,其自身的14纳米工艺也比不上所谓的10纳米。在今年1月总结英特尔10纳米芯片的路线图时,芯片巨头没有公开宣布晶体管的确切尺寸。然而,本周,最终数据再次揭晓。

英特尔的10纳米节点使鳍间距为34纳米,而金属间距为36纳米(这两个数据在14纳米节点分别为42纳米和52纳米)。在这次活动中,马克波尔(流程架构和合资企业的深度研究员)需要改变回踢法。英特尔想再次与三星和TSMC玩“数字”游戏。

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未来,英特尔将使用密度测量来定义过程节点。如果按此标准计算,英特尔近年来晶体管密度翻了一番。

比如22nm演变成14nm,晶体管密度增加2.5倍,14nm演变成10nm,密度增加2.7倍。最重要的是,10nm芯片在计算速度和功耗上做了小小的改变(玻尔更注重后者的显示)。

然而,英特尔的测量方法能否在整个行业实施仍不得而知。EE Times采访了很多业内人士,一位未透露姓名的TSMC发言人回应道:“英特尔的计算方式让我有点阴暗。

比如他们的第一代14nm Broadwell芯片每平方毫米有1840万个晶体管,但是换来新的测量方法,晶体管怎么突然变成3750万了?英特尔在玩文字游戏吗?”所以英特尔口中的一亿个晶体管还是可以选择的。但芯片巨头们还是特别注重每一次技术节点升级都可以让同一区域的晶体管数量翻倍的概念。英特尔称这种升级策略为“微重力”。英特尔的鲁思布雷恩回应说,在14纳米芯片上,公司开始使用名为自对准双曝光工艺(SADP)的技术。

SADP是一种多重光学技术,利用这种技术可以用193纳米浸没光刻技术制造芯片。Brain指出,其他公司的多次曝光技术要简单得多,光刻会出现一些偏差。必须注意的是,这项技术的关键是光刻机每次曝光都能找到同一个地方。一旦出现频繁偏差,芯片显示和成品率都会受到影响,SADP技术可以避免这个问题。

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在10纳米芯片上,英特尔配备了自对准四重曝光技术(SAQP),未来将用于芯片巨头的7纳米芯片。当然,未来极紫外光刻技术(EUV)可能不会转入芯片生产,原有的193nm紫外光会提高到13.5nm,工程师们在讲解新的技术突破时,总是讨厌淡化期间遇到的困难。“摩尔定律有趣的地方在于,它的构建似乎是注定的,但其中的艰辛却难以用语言来描述。

要想有大的突破,一定要有创意。”米斯特里说。

Mistry回应称,FinFET晶体管仍是行业基准,但有可能在2011年不会过时。“在芯片行业,每一步前进都很艰难,但一旦做出来,就成了理所当然的事。这就是摩尔定律的魔力。”通过光谱。


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